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美國OSU研究人員打造MIIM結構的二極管元件

  中國電力電子產業網訊:采用「金屬-絕緣層-金屬」(MIM)結構的二極體元件一直是發展前景被看好但又遙不可及的技術之一,它可作業于較矽元件更高的Thz級頻率,而且功耗更低,產生的熱量也較少。

  MIM二極體使用量子穿隧技術,它可讓電子從一個金屬電極跳轉到另一金屬電極,而不致于干擾到中間的絕緣層,因而能夠降低功耗與熱。然而,目前在這方面的研究發展進度一直很緩慢。

  現在,美國奧勒岡州立大學(OSU)的研究人員們聲稱,透過在MIM結構上增加第二絕緣層形成MIIM結構,可望增強這項技術,使其得以用于解決MIM元件的問題,并進一步推動這項技術邁向主流。

  「業界一般在上下電極采用兩種不同金屬的作法,但這可能由于不同金屬之間的功能差異而造成限制,」OSU教授JohnConley表示,因此,「透過采用兩種不同的絕緣層──一層具有較大能隙,另一層能隙較小──我們可以取得更多的不對稱性,甚至能覆蓋掉不同金屬的不對稱性?!?/P>

從MIIM元件的穿透式電子顯微鏡(TEM)影像可看出其中排列的非晶鋯、氧化鉿、氧化鋁以及鋁(由左至右)共4層結構。

  從MIIM元件的穿透式電子顯微鏡(TEM)影像可看出其中排列的非晶鋯、氧化鉿、氧化鋁以及鋁(由左至右)共4層結構。

  Conley的研究采用了兩個絕緣層──氧化鉿、氧化鋁,實現了他所謂的「步進穿隧」(steptunnelling)技術,能夠更精確地控制二極體的不對稱性,從而能在低電壓時調整元件性能。

  Conley認為這種新的MIIM元件可用于改善目前普遍使用的各種電子設備,從液晶顯示器(LCD)到手機與電視,以及新一代的設備,如可將輻射熱轉換為電力的紅外線太陽能電池。

  「最重要的就是紅外線天線,它可在特殊的紅外線太陽能電池中采集到紅外線能源?!?/P>

  接下來,研究人員們希望能夠最佳化這一技術制程,以因應采用更多金屬絕緣層的應用,如電晶體。

  「MIIM結構本身只是一顆二極體,但我們打算以其它結構來打造這些元件,以提高其性能,例如1960年代CarverMead打造的MIMIM熱電子電晶體,」Conley說。

責任編輯:LI

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