隨著特征尺寸的不斷縮小，以及多次自對準圖形的廣泛采用，對于薄膜制備所需要考量的均勻性、一致性、密度和厚度等需求變得越來越嚴苛。
在Low-k材料被廣泛應用后，TiN Hardmask薄膜因可以幫助在via/trench刻蝕后獲得更佳的形貌，已成為不可或缺的關鍵工藝。根據這一需要，北方華創的exiTin H430 PVD系統應運而生。
由北方華創自主研發，應用于28納米工藝的exiTin H430 TiN PVD沉積系統具有獨特的工藝控制技術，設備兼容性強，工藝穩定，顆粒表現佳，靈活的設計可以為客戶工藝集成提供更大空間，同時也為客戶降低了生產成本。
北方華創的exiTin H430 PVD系統從2012年開始進入客戶端，其TiN膜厚均勻性及電阻均勻性等關鍵技術指標優于國際主流設備，實現了我國高端集成電路裝備的技術跨越。2015年，該設備作為國產設備僅有的代表通過國際知名集成電路設計企業的產品驗證，并成為在28納米生產線首臺基準國產高端裝備（Baseline）。近期該設備又獲得知名芯片制造企業頒發的穩定量產100萬片紀念獎杯，這是國產PVD設備市場化進程中的又一個重要的里程碑。
